本文件规定了高精度磁控溅射镀膜设备的术语和定义、组成、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。本文件适用于极限压力在10-5 Pa~10-3 Pa范围的高精度磁控溅射镀膜设备(以下简称“设备”)。 ... 上一篇:T/GVS 003-2021 真空表面处理工艺用离子源下一篇:T/GVS 001-2021 真空镀膜设备 电磁兼容 屏蔽与辐射安全技术规范