本文件规定了真空表面处理工艺常用离子源的术语和定义、分类、使用条件、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。本文件适用于在真空环境下用于表面处理工艺的常用离子源(以下简称离子源)。 ... 上一篇:T/GVS 004-2022 光学真空镀膜职业技能等级规范下一篇:T/GVS 002-2021 高精度磁控溅射镀膜设备通用技术要求