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GB/T 34649-2017 磁控溅射用钌靶
- 英文名称：Magnetron sputtering ruthenium target
- 下载地址：[下载地址1]
- 提 取 码：o67c
- 浏览次数：3
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资料介绍
本标准规定了磁控溅射用钉靶的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存、质量证明书和订货单(或合同)内容。
本标准适用于微电子领域镀膜用磁控溅射钉靶(以下简称钉靶)。
本标准适用于微电子领域镀膜用磁控溅射钉靶(以下简称钉靶)。
