T/CPIA 0065-2024 异质结电池用等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备

本文件规定了本征薄膜异质结电池用等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备（以下简称“PECVD设备”）的术语和定义、工作环境、设备要求、试验方法、检验规则以及包装、标志、搬运和运输、贮存等。
本文件适用于本征薄膜异质结电池用PECVD设备。产品主要用于沉积多种薄膜材料，例如非晶硅、微晶硅、二氧化硅、氮化硅薄膜等本征薄膜材料等。