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DB13/T 6033-2024 半导体器件低浓度氢效应试验方法
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- 类 别：综合地方标准
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资料介绍
本文件描述了半导体器件低浓度氢效应试验的试验方法。
本文件适用于氢气氛浓度不超过2 %的半导体器件氢效应试验。其他氢气氛浓度可参照使用，当有相应的国家标准或行业标准时，以国家标准和行业标准规定为准。
本文件适用于氢气氛浓度不超过2 %的半导体器件氢效应试验。其他氢气氛浓度可参照使用，当有相应的国家标准或行业标准时，以国家标准和行业标准规定为准。
