您当前的位置:首页 > YS/T 23-2016 硅外延层厚度测定 堆垛层错尺寸法 > 下载地址1
YS/T 23-2016 硅外延层厚度测定 堆垛层错尺寸法
- 英文名称:Test method for thickness of epitaxial layers—Stacking fault size
- 下载地址:[下载地址1]
- 提 取 码:zdqc
- 浏览次数:3
新闻评论(共有 0 条评论) |
资料介绍
本标准规定了利用堆垛层错尺寸法测量硅外延层厚度的方法。
本标准适用于在<111>、<100>和<110>晶向的硅单晶衬底上生长的2μm~120μm硅外延层厚度的测量。
相关推荐
- YS/T 813-2012 废杂黄铜化学成分分析取制样方法
- YS∕T 658-2020 焊管用钛带
- YS∕T 1246-2018 铷
- YS/T 990.3-2014 冰铜化学分析方法 第3部分:硫量的测定 重量法和燃烧滴定法
- YS/T 1115.2-2016 铜原矿和尾矿化学分析方法 第2部分:铅量的测定 火焰原子吸收光谱法
- YS∕T 5223-2019 静力触探试验规程
- YS/T 521.2-2009 粗铜化学分析方法 第2部分:金和银量的测定 火试金法
- YS/T 451-2012 塑覆铜管
- YS/T 1046.6-2015 铜渣精矿化学分析方法 第6部分:三氧化二铝量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法
- YS/T 798-2012 镍钴锰酸锂