YS/T 936-2013 集成电路器件用镍钒合金靶材

英文名称：Sputtering nickel vanadium alloy target used in integrated circuit device
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资料介绍

本标准规定了集成电路器件用镍钒合金溅射靶材的要求、试验方法、检验规则和标志、包装、运输、贮存及订货单或合同内容。
本标准适用于电子薄膜制造用的各类镍钒合金溅射靶材。