JC/T 2133-2012 半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的测定

英文名称：Determination of impurities in silica sol for polishing solution in semiconductor industry
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资料介绍

本标准规定了采用电感耦合等离子体原子发射光谱（ICP-AES）法测定半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的方法。
本标准适用于半导体化学机械抛光（CMP）中抛光液用的各种硅溶胶。