等离子体发射光谱分析 第2版作者:辛仁轩 编著出版时间:2011年版内容简介 《等离子体发射光谱分析 》系统地介绍了ICP光谱基本技术和知识(ICP光源特性、定性分析及定量分析方法、分析条件的选择、干扰效应及其处理),ICP光谱分析领域的新仪器和新技术:固体检测器光谱仪器和技术;轴向观测ICP光源;各种类型样品的进样技术;有机溶剂和有机样品的ICP分析方法;ICP光谱分析的样品处理方法;基体效应的影响及抑制;ICP光谱仪器和技术的发展;全面介绍了各种新型ICP光谱仪器性能和特点。还以一定篇幅介绍了ICP光谱技术在各领域的实际应用:钢铁及其合金、有色金属合金、环境样品、地质矿物、无机非金属材料、化学化工产品、食品和饮料、生物及生化样品、核燃料及核材料等。《等离子体发射光谱分析 》可作为光谱分析技术人员及高等学校分析化学专业的学生及研究生的学习参考用书,也可作为专业培训班的教材。目录第1章 概述1.1 引言1.2 原子发射光谱分析简史1.2.1 定性分析阶段1.2.2 定量分析阶段1.2.3 等离子体光谱技术时代1.3 等离子体光谱简介1.3.1 直流等离子体光源的发展1.3.2 微波等离子体光源的发展1.3.3 电感耦合等离子体光源参考文献第2章 ICP光源的物理化学特性2.1 等离子体的基本概念2.2 电感耦合等离子体的形成2.2.1 ICP的形成条件及过程2.2.2 工作气体2.3 ICP的物理特性2.3.1 ICP的环形结构及趋肤效应2.3.2 ICP温度分布的不均匀性及其分区2.3.3 等离子体的温度及其测量2.4 ICP光源的光谱特性2.4.1 分析物的原子发射光谱2.4.2 工作气体的发射光谱2.4.3 分子发射光谱2.4.4 连续背景发射光谱2.5 ICP光源的激发机理2.5.1 Penning电离反应模型2.5.2 电荷转移反应模型2.5.3 复合等离子体模型2.5.4 双极扩散模型2.5.5 辐射俘获模型2.5.6 分析物的电离和激发过程参考文献第3章 ICP光谱仪器3.1 高频发生器3.1.1 高频发生器的技术要求3.1.2 自激振荡器原理3.1.3 自激式等离子体电源线路3.1.4 他激振荡器3.1.5 高频电流的传输3.1.6 ICP光源中振荡频率的影响3.2 ICP炬管3.2.1 通用ICP炬管3.2.2 炬管结构及等离子体的稳定性3.2.3 低气流炬管3.2.4 微型炬管3.2.5 水冷炬管3.2.6 层流炬管3.2.7 分子气体的应用3.2.8 炬管延伸管3.3 进样装置3.3.1 玻璃同心雾化器3.3.2 交叉雾化器3.3.3 Babington雾化器3.3.4 超声波雾化器3.3.5 雾室3.3.6 雾化器及进样系统性能的诊断和评价3.4 分光装置3.4.1 ICP光源对分光系统的要求3.4.2 发射光谱仪常用的几类光栅3.4.3 光谱仪常用分光装置3.5 测光装置3.5.1 光电倍增管3.5.2 信号处理单元3.6 固态光电检测器及其ICP光谱仪中的应用3.6.1 ICP光谱仪中的电荷转移器件3.6.2 电荷转移器件原理3.6.3 电荷注入检测器3.6.4 电荷耦合检测器3.6.5 电荷转移检测器的特性3.6.6 固态检测器在ICP光谱仪中的应用参考文献第4章 光谱分析原理4.1 原子发射光谱的产生4.1.1 光谱的产生4.1.2 谱线的宽度及变宽4.1.3 谱线的自吸4.2 定量分析原理4.2.1 谱线强度与浓度的关系4.2.2 标准曲线法定量分析4.2.3 标准曲线非线性问题4.2.4 其他定量分析方法4.2.5 定性和半定量分析4.3 光谱分析条件4.3.1 高频功率的影响4.3.2 工作气体流量4.3.3 观测高度4.3.4 其他分析参数4.3.5 分析参数的优化4.4 灵敏度、检出限和精密度4.4.1 分析灵敏度4.4.2 检出限4.4.3 精密度4.5 干扰效应4.5.1 物理干扰4.5.2 化学干扰4.5.3 电离干扰4.5.4 光谱干扰4.6 基体效应4.6.1 ICP光源的基体效应4.6.2 基体效应的特点4.6.3 重要基体效应及其处理方法参考文献第5章 ICP光谱分析的应用5.1 应用领域5.2 建立ICP光谱分析法的程序5.3 钢铁及其合金分析5.3.1 碳钢及低合金钢5.3.2 碳钢及低合金钢中微量元素的测定5.3.3 高合金钢5.3.4 高纯铁分析5.3.5 铸铁样品5.3.6 铁合金分析5.4 有色金属及其合金5.4.1 铝及其合金分析5.4.2 金属锆及其合金5.4.3 铜及其合金5.4.4 铅及其合金5.4.5 钨和钼及其合金5.4.6 铌和钽5.4.7 贵金属5.4.8 其他有色金属和合金5.5 水质样品分析5.5.1 水样直接分析法5.5.2 富集ICP光谱法5.5.3 超声雾化分析水样……第6章 ICP光谱分析中的样品处理第7章 端视ICP光谱技术第8章 专用进样装置与技术第9章 有机化合物的ICP光谱分析第10章 ICP光谱仪器发展与技术性能第11章 电弧光源和火花光源分析 上一篇: 界面膜原理与应用 [赵振国 编] 2013年版 下一篇: 等离子体技术与应用实验教程 [马志斌,付秋明,郑志荣 编著] 2014年版