基于应力诱导法的氧化亚铜纳米线制备及其应用的研究作者:岳玉梅,张利国,姬书得 著出版时间:2013年版内容简介 作为纳米科技中的非常活跃的一个研究领域,在本专著中系统地研究了氧化亚铜纳米线的制备和应用。尤其氧化亚铜是具有优异的光学和电磁学性能的重要的半导体材料之一,是本研究的核心。《基于应力诱导法的氧化亚铜纳米线制备及其应用的研究》分别研究了氧化亚铜纳米线的制备,进而可控制其纳米线的直径,并深刻探究纳米线的生长机理。此外,实现了在指定位置特定形状的纳米线的制备,以及进一步扩展纳米线的应用领域。本专著的研究将为纳米线在众多工业中的应用打下坚实的理论和试验基础。目录1 绪论1.1 研究背景和动机1.2 目前研究难点和挑战1.3 研究宗旨和目标1.4 研究的主要内容2 纳米线制备与评估2.1 实验步骤2.2 直接降温过程和阶梯降温过程2.3 纳米线最佳制备条件2.4 纳米线直径的可控性2.5 纳米线成分分析3 纳米线生长机理分析3.1 Cu薄膜内应力分析3.2 加热过程3.3 阶梯降温过程4 指定位置纳米线的生长4.1 实验过程4.2 改善措施5 光电效应的应用5.1 简介5.2 样品制备5.3 暗电流曲线5.4 伏安特性曲线6 结论参考文献 上一篇: 固体与软物质缺陷与断裂理论基础 下 [范天佑 著] 2014年版 下一篇: 基于难混溶体系的新型Pb-Al层状复合阳极材料 [周生刚,竺培显 主编] 2013年版