含硅聚合物:合成与应用作者:(日本)乔努斯基,(美国)安藤亘,琼斯 编;冯圣玉 译 出版时间:2008 该书参考了相关领域若干知名专家的研究成果, 比较系统地介绍了含硅聚合物的合成及应用技术。全书共分4篇。前3篇介绍了聚硅氧烷、聚碳硅烷和聚硅氮烷、聚硅烷及相关聚合物的合成、改性技术,结构与性能,以及应用技术等;第4篇介绍了含硅聚合物面临的挑战以及令人感兴趣的领域,包括含硅乙烯基单体及聚合物、有机硅高分子液晶、有机硅树枝状大分子、光学活性有机硅聚合物、有机硅酸酯低聚物与纳米结构材料等。 该书既有基础理论,又涉及大量的应用实例,是一本较全面的有机硅专著,可供从事有机硅科研、生产、应用的技术人员阅读,也可作为相关院校师生的教材或参考书。 上一篇: 无机膜技术及其应用 下一篇: 催化剂评价与表征