气相沉积应用技术
作者： 王福贞 马文存 责任编辑：王兴垣 
   
出版日期：2007-1-1 

本书在第1篇中全面阐述了化学气相沉积、物理气相沉积、等离子体增强化学气相沉积的技术基础、技术原理、新的沉积技术、工艺过程、设备配套、膜层质量检测和分析。在第2篇中介绍了气相沉积技术在工模具硬质涂层、防护涂层、光学薄膜、建筑镀膜玻璃、太阳能利用、集成电路制造、信息存储、显示器件、饰品装饰、塑料金属化和柔性基材的卷绕薄膜产品等方面的应用。本书内容丰富新颖，力求紧密联系实际。
本书可供从事气相沉积技术的工程技术人员、科技工作者、在校师生和工人阅读，也可以作为相关专业的参考书。

目录
序1
序2
前言

第1篇 气相沉积技术基础及各种气相沉积技术
第1章 气相沉积技术概述 
气相沉积技术分类
气相沉积技术特点
气相沉积技术应用
第2章化学气相沉积技术
1绪言
化学气相沉积物理化学基础21CVD反应方式
22CVD反应条件
23CVD反应过程
3化学气相沉积热力学分析
4化学气相沉积反应物质源
41气态物质源
42液态物质源
43固态物质源
5化学气相沉积涂层质量影响因素51沉积温度
52沉积室压力
53反应气体分压(配比)
6化学气相沉积装置
61CVD装置基本构成
62负压CVD装置主要性能简要说明7高温化学气相沉积技术
71HTCVD硬质涂层种类和性能
72HTCVD工艺技术
8中温化学气相沉积(MT-CVD)技术
81MT-CVD反应机理
82MT-CVD工艺过程及设备
83MT-CVD沉积TiCN涂层组织结构及特性
84高性能涂层材料及其沉积工艺技术
85高性能涂层硬质合金刀具组织结构及特性
参考文献
第3章物理气相沉积技术






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