杂多 阴 离 子的有机硅衍生物首先由Knoth[l]报道,合成了组成为[Siwii伪9{O( SiR):}](R=Et,P h,C 3HS) 杂多阴离子;从a-[PWn03917-和+-[PW9Mo203911’出发也获得了相似的有机硅衍生物[21.本文以13-A-PW903广缺位阴离子和PhSiC13为原料,合成了未见文献报道的杂多化合物的苯基硅衍生物。 上一篇: 室温固化转移型有机硅压敏胶研究 下一篇: 溶剂型常温交联有机硅丙烯酸建筑涂料的研制