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T/IAWBS 007-2018 4H 碳化硅同质外延层厚度的红外反射测量方法
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资料介绍
本标准规定了4H-N型重掺杂碳化硅衬底（N型掺杂浓度>5×1018 cm-3）上同质外延层（掺杂浓度5×1014cm-3-5×1016 cm-3）厚度的红外反射测量方法。
本标准适用于2-100微米的碳化硅外延层。
本标准适用于2-100微米的碳化硅外延层。
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