半导体晶片清洗:科学、技术与应用作者:(美)克恩 主编出版时间:2012年版内容简介 半导体制造工艺是实现由材料到分立器件或集成系统的关键,其中清洗工艺是使用最普遍的工艺步骤。本书详细介绍了与分立半导体器件及超大规模集成电路芯片制造相关的各种晶片清洗技术,着重讲解了这些清洗技术的发展过程、基本原理和实际应用问题。全书共分为五部分十三章:第一部分介绍半导体晶片沾污类型、清洗技术... 上一篇:半导体纳米结构(英文 影印版)下一篇:菜鸟学通系列:菜鸟学通电子电路